金融界2025年6月21日消息，国家知识产权局信息显示，拓荆科技（上海）有限公司申请一项名为“一种薄膜沉积系统”的专利，公开号CN120174337A，申请日期为2025年03月。
专利摘要显示，本发明提供了一种薄膜沉积系统。所述薄膜沉积系统包括第一气源、第一气体管路及第二气体管路。该第一气源用于提供形成应力薄膜的第一气体。该第一气体管路第一端连接所述第一气源，而其第二端对准晶圆背面的第一区域及第二区域，其中，所述第一区域与所述第二区域关于所述晶圆的第一径向对称分布。该第二气体管路第一端连接所述第一气源，而其第二端对准所述晶圆背面的第三区域及第四区域，其中，所述第三区域与所述第四区域关于所述晶圆的第二径向对称分布。
天眼查资料显示，拓荆科技（上海）有限公司，成立于2020年，位于上海市，是一家以从事零售业为主的企业。企业注册资本143253.79万人民币。通过天眼查大数据分析，拓荆科技（上海）有限公司参与招投标项目20次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息258条，此外企业还拥有行政许可29个。
来源：金融界
发布于：北京市九八策略提示：文章来自网络，不代表本站观点。
